Progreso del recubrimiento

Introduzca el sistema de muestras en la cámara de recubrimiento.

Para la deposición de recubrimientos PVD se requiere un alto vacío. El sistema de recubrimiento de Huasheng se lleva a cabo en dos etapas: primero, la bomba mecánica reduce la presión de la cámara de vacío de 1000 mbar a 10⁻¹ mbar; luego, la bomba turbomolecular genera un alto vacío de aproximadamente 1 × 10⁻⁶ m bar.

Calentar la cámara a unos 500 ℃, que es la temperatura de proceso convencional.

El sistema de recubrimiento de Huasheng utiliza tres tecnologías de proceso de grabado diferentes: HUASHENG® (descarga luminiscente lateral); grabado con plasma de argón, descarga luminiscente; grabado con iones metálicos (Ti+, Cr+).

La deposición del recubrimiento se logra mediante PVD (deposición iónica por arco, pulverización catódica por magnetrón o tecnología de cátodo integrado HUASHENG®).

Enfríe la cámara de recubrimiento.

Retire el sistema de muestras de la cámara de recubrimiento.