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HD500: Nuevo equipo de recubrimiento iónico compuesto de la serie HD.

El HD500 se basa en la innovadora plataforma tecnológica de recubrimiento compuesto de Huasheng, que integra procesos de pulverización catódica de alta ionización y arco eléctrico. Las películas fabricadas con esta tecnología ofrecen una mayor versatilidad. En particular, presentan ventajas significativas al trabajar con materiales difíciles de mecanizar, como el acero inoxidable y las aleaciones de titanio. Esto se traduce en un aumento sustancial de su vida útil.

Además, esta tecnología ofrece un mayor potencial para futuros avances en los procesos. Al mismo tiempo, presenta una excelente flexibilidad, lo que le permite satisfacer las necesidades de la producción de recubrimientos a pequeña escala, así como la investigación y el desarrollo de procesos.

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Características técnicas del HD500

Grabado lateral único

√ Uniformidad excepcional en el grabado lateral

√ Excelente propiedad de voladizo de grabado y mantenimiento conveniente

Pulverización catódica por magnetrón HiPIMS compuesta

√ Equipado con fuentes DC + HiPIMS MS, garantiza altas tasas de deposición al tiempo que cumple con los requisitos de energía para depositar metales refractarios como Nb, BC, W, V, etc., y es capaz de depositar casi todos los materiales.

Fuente multiarco optimizada para plasma

√ Equipado con 3 grupos de 6 fuentes de objetivo circulares multiarco, el mecanismo de iniciación de arco oculto es fiable y fácil de mantener.

√ Permite la fácil deposición de películas delgadas multicapa y con múltiples elementos.

√ La fuente de plasma multiarco optimizada garantiza una superficie de película delgada más lisa.

√ La tasa de utilización del material objetivo es extremadamente alta.

Múltiples plataformas tecnológicas de deposición

√ Permite realizar múltiples tecnologías de deposición de películas delgadas en la misma plataforma, incluyendo DC MS + HiPIMS MS + recubrimiento iónico de arco múltiple, y puede implementar métodos de recubrimiento simples, compuestos y mixtos en el mismo lote.

Parámetro del producto

HD500

Nombre	Parámetro
Tecnología de recubrimiento	Tecnología de recubrimiento compuesto totalmente nueva
Aguafuerte	Fuente de iones lateral (filamento caliente)
Fuentes de arcos múltiples (número)	6
Cátodos de magnetrón (número)	1
Tamaño del equipo (mm)	largo3400ancho1600alto2600
Volumen de la cámara (m³)	0,7
Área de recubrimiento efectiva (mm)	Ф410*400
Temperatura máxima de funcionamiento (℃)	700
Capacidad de carga (número de árboles)	5
Carga de la cuchilla (APMT1135)	6000 unidades
Capacidad de carga de la pala de la varilla (D4*50L)	1800 unidades
Peso máximo de carga (KG)	300
Diámetro del eje	F130
Tiempo de procesamiento	AlTiN: 6~8 h